今日，光刻膠板塊領漲A股市場，截至發稿，容大感光20CM漲停，格林達、晶方科技漲停，康鵬科技漲超13%，波長光電漲超12%，安集科技漲超9%，盛劍環境、藍英裝備、蘇大維格、南大光電、同益股份等跟漲。

(相關資料圖)

消息面上，光刻機概念股廣信材料昨日發布2023年半年度報告，上半年公司實現營業收入2.43億元，歸母凈利潤1,989.05萬元，同比實現扭虧并大幅增長227.57%。

另外，電子材料咨詢公司TECHCET報告指出，預計全球光刻膠市場將在2024年實現反彈，增長7%，總額達到25.7億美元。

光刻膠需求持續增長

在5G、物聯網、智能汽車、云服務等下游旺盛需求的驅動下，全球半導體需求逐漸提升。而光刻膠為集成電路中極為重要的材料，作為圖形媒介物質，用于芯片制造的光刻環節，是必不可缺的關鍵材料。

在傳統的光刻機的研發層面，目前難題在于制造的精度上，對于芯片制造工藝來說，通過多重曝光技術可以實現更高的精度，但隨著曝光次數的增加，光刻次數在增加，光刻膠需求也將隨之大幅提升。

光刻膠作為光刻過程的關鍵耗材，也因其高壁壘、高價值量的特點，被荷蘭 ASML、日本佳能、尼康三大巨頭壟斷。

據芯思想Chipinsights數據顯示，在2022出貨的551臺光刻機中，ASML累計出貨345臺，佳能176臺，尼康30臺。銷售額方面，ASML為絕對龍頭，占據82%的市場份額。

然而，值得注意是，荷蘭此前發布的光刻機出口管制細則將于明日（9月1日）生效。伴隨荷蘭、日本、美國加大半導體設備出口限制風險升級，將進一步推動中國半導體國產化率提升。

與此同時，隨著全球晶圓制造的重心和產能分布逐漸移向東亞地區轉移，我國光刻膠市場規模有望顯著增長。

根據Techcet數據，預計2021年全球光刻膠市場規模達19.88億美元，2025年有望達24.66億美元，5年CAGR達6.11%。2021年中國大陸地區的光刻膠市場規模達到13.39億美元，CAGR11%，增長速度為國際光刻膠市場的兩倍。

我國有望承接半導體光刻膠產業鏈轉移

值得關注的是，電子材料咨詢公司TECHCET首席策略師Karey Holland博士指出：“增長最快的光刻膠產品是EUV和KrF，因為這兩種產品都用于引入先進邏輯和存儲器等新技術。”

隨著高端光刻膠需求增加，國內外廠商將逐鹿KrF、ArF（可用于EUV工藝）光刻膠。而制造8寸、12寸晶圓需使用KrF、ArF光刻膠，全球8寸/12寸晶圓廠擴產將帶動KrF、ArF光刻膠需求。

根據SEMI數據，2026年全球300mm（12寸）晶圓廠產能有望提高至960萬片/月；全球半導體制造商預計將從2021年到2025年將200mm晶圓廠產能提高20%，新增13條200mm生產線，產能有望超700萬片/月。

需求端方面，據TECHCET數據，2025年，KrF/ArF光刻膠市場規模分別為9.07/10.72億美元，故未來KrF、ArF光刻膠將成為國內外廠商主要競爭市場。

據IDC及芯思想研究院統計，截至2021年，我國6英寸及以下晶圓制造線裝機產能約420萬片等效6英寸晶圓產能，8英寸、12英寸 晶圓制造廠裝機產能分別為125萬片/月、131萬片/月，預計到2024年8英寸、12英寸將達到187與273萬片/月，年均復合增速分別 為14.37%、27.73%。

因此我國大陸晶圓廠新產能建設在本輪擴產中處于全球領先地位，光刻膠需求增長更快。

對此，太平洋證券認為，伴隨晶圓制造規模持續提升，中國有望承接半導體光刻膠產業鏈轉移。

相關概念股一覽：

彤程新材：目前生產半導體光刻膠、顯示面板光刻膠等，半導體光刻膠還包括G線、I線、KrF光刻膠。主要國內客戶包括中芯國際、華虹集團、長江存儲、長鑫存儲等幾十家客戶。

瑞聯新材：光刻膠材料產品以半導體光刻膠單體和顯示用高端光刻膠為主，其中半導體光刻膠單體主要面向國外光刻膠領域的知名企業，顯示用高端光刻膠主要面向國內客戶。

福晶科技：晶體龍頭，曾為ASML的供應商。光刻機光學方面，公司前期曾通過歐洲代理向ASML供應少量光學元件，公司晶體核心產品LBO、BBO市占率達80%。

茂萊光學：工業精密光學龍頭，為上海微批量供應光刻機透鏡。光刻機光學領域，公司主要供應光刻機光學系統照明、曝光模塊使用的透鏡，主要客戶為上海微電子。半導檢測設備測光學領域，公司主要供應物鏡、透鏡，主要客戶為康寧、Camtek、KLA等。

騰景科技：多波段合分束器已進入樣品驗證階段。1）騰景科技主營產品為精密光學元組件、光纖器件。光學元組件產品主要包括平面光學元件、球面光學元件、模壓玻璃非球面透鏡、光學組件等；光纖器件產品主要包括鍍膜光纖器件、準直器、聲光器件等。2）光刻機光學領域，多波段合分束器已完成產品開發，成功進入半導體微電子設備廠供應鏈。

炬光科技：光場勻化器成功進入ASML供應鏈。公司多年來一直為半導體光刻應用領域提供光刻機曝光系統中的核心激光光學元器件光場勻化器，最終應用于全球高端光刻機生產商ASML的核心設備。

奧普光電：蔡司的間接供應商，主要供應K9光學玻璃、人造螢石（CaF2)等高端光學材料，系長春光機所控股公司。公司大股東為長春光機所（中國科學院長春光學精密機械與物理研究所），持有42.4%股權，長春光機所于2002年研制國內第一套EUV光刻原理裝置，2016年成功研制波像差優于0.75nm RMS的兩鏡EUV光刻物鏡系統，2017年32nm線寬的13.5nmEUV 光刻曝光系統通過驗收。

蘇大維格：研發生產投影式光刻機用定位光柵部件，主要客戶為上海微電子。

晶方科技：通過收購荷蘭子公司打入ASML供應鏈，擁有混合鏡頭、晶圓級微型光學器件工藝技術設計、特性材料及量產能力，其產品可廣泛應用于半導體精密設備、工業自動化、汽車、安防、3D 傳感器等應用領域。

關鍵詞：